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技術(shù)文章

賽默飛掃描電鏡的功能特點(diǎn),快來(lái)了解一下吧!

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  賽默飛掃描電鏡結(jié)合了全面的成像性能和*的環(huán)境模式,同時(shí)兼容廣泛的硬件和軟件選型,可滿足多用戶實(shí)驗(yàn)室的綜合應(yīng)用需求。支持掃描預(yù)設(shè)、便捷的相機(jī)導(dǎo)航更進(jìn)一步提升了生產(chǎn)力、數(shù)據(jù)質(zhì)量和易用性。多種檢測(cè)器選項(xiàng)的定向背散射探測(cè)器、STEM、陰極熒光探測(cè)器等功能,探測(cè)器信號(hào)同步采集和顯示,可以在最短的時(shí)間內(nèi)提供答案。此外,ESEM可以在現(xiàn)實(shí)條件下對(duì)樣品進(jìn)行原位研究,例如在濕潤(rùn)、高溫、潮濕或反應(yīng)性環(huán)境中的樣品觀察
 
  賽默飛掃描電鏡有三種真空模式,使得系統(tǒng)靈活性*,可以容納任何SEM可用的*泛的樣品類型,包括放氣的、未鍍導(dǎo)電膜的或者是與真空狀態(tài)不相容的樣品。它同時(shí)支持相對(duì)的雙能譜(EDS)探測(cè)器、共面能譜(EDS)、電子背散射衍射(EBSD)和平行束波譜(WDS)探測(cè)器。分析樣品倉(cāng)可以滿足日益增長(zhǎng)的樣品元素信息及晶體結(jié)構(gòu)分析需求。
 
  賽默飛掃描電鏡具有幾下幾個(gè)特點(diǎn):
 
  1.在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行原位研究:在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品,同步獲取二次電子像和背散射電子像。
 
  2.大程度縮短樣品制備時(shí)間:低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析,樣品表面無(wú)荷電累積。
 
  3.觀察所有樣品獲取全面的信息,在每種操作模式下均可同時(shí)進(jìn)行SE和BSE成像。
 
  4.優(yōu)益的不導(dǎo)電樣品分析功能:借助多級(jí)穿過(guò)透鏡的真空系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)低真空下的高質(zhì)量EDS和EBSD分析。
 
  5.高精度優(yōu)中心樣品臺(tái),可多方位觀察樣品。
 
  6.軟件直觀、簡(jiǎn)便易用,配置用戶向?qū)Ъ俺蜂N功能,新手用戶可進(jìn)行高效操作,專家用戶也可進(jìn)行更少的操作,完成快速分析。

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