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2021

11-5

隨著納米科技的發(fā)展，納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速，而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發(fā)展起來的聚焦離子束(FIB)技術(shù)利用高強(qiáng)度聚焦離子束對材料進(jìn)行納米加工，配合聚焦離子束電鏡等高倍數(shù)電子顯微鏡實(shí)時(shí)觀察，成為了納米級分析、制造的主要方法。目前已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路修改、切割和故障分析等。典型的聚焦離子束電鏡包括液態(tài)金屬離子源及離子引出極、預(yù)聚焦極、聚焦極所用的高壓電源、電對中、消像散電子透鏡、掃描線圈、二次粒子檢測器、可移動(dòng)的樣品基座...

2021

11-2

一文帶你認(rèn)識(shí)球差電鏡！

球差電鏡，什么是球差？球差是像差的一種，是影響TEM分辨率的主要原因之一。由于像差(球差、像散、彗形像差和色差)的存在，無論是光學(xué)透鏡還是電磁透鏡，其透鏡系統(tǒng)都無法做到。光學(xué)透鏡中，可通過將凸透鏡和凹透鏡組合使用來減少由凸透鏡邊緣匯聚能力強(qiáng)中心匯聚能力弱所致的所有的光線(電子)無法匯聚到一個(gè)焦點(diǎn)的缺點(diǎn)，可對于電磁透鏡，我們沒有凹透鏡，球差便成了影響TEM分辨率最主要也最難解決的問題。球差電鏡，球差是由什么產(chǎn)生的？TEM中包含多個(gè)磁透鏡：聚光鏡、物鏡、中間鏡和投影鏡等。球差是由...

2021

10-21

高分辨率掃描電鏡的檢測范圍和基本構(gòu)造

高分辨率掃描電鏡是電子顯微鏡的一種，其原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數(shù)進(jìn)行形貌觀察，同時(shí)利用電子激發(fā)出樣品表面的特征X射線來對微區(qū)的成分進(jìn)行定性定量分析，是我們材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。掃描電鏡按照電子槍分類可以分為鎢(W)燈絲、六硼化鑭(LaB6)燈絲、場發(fā)射三種，場發(fā)射掃描電鏡相比于鎢燈絲、六硼化鑭，具有電子束斑小、高分辨率、穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。高分辨率掃描電鏡的檢測范圍：1.金屬、陶瓷、高分子、礦物、半導(dǎo)體、紙張、化工產(chǎn)品的顯微形貌觀察及...

2021

10-18

PFIB顯微鏡的小知識(shí)，快來學(xué)習(xí)一下！

PFIB顯微鏡是一款雙束電鏡，它可以簡單理解為單束聚焦離子束系統(tǒng)與普通SEM的耦合。單束聚焦離子束系統(tǒng)由離子源、離子光學(xué)柱、束描畫系統(tǒng)、信號采集系統(tǒng)和樣品臺(tái)五個(gè)部分構(gòu)成。離子源設(shè)置在離子束鏡筒的頂端，在其上加較強(qiáng)的電場可以抽取出帶正電荷的離子，這些離子通過靜電透鏡及偏轉(zhuǎn)裝置的聚焦和偏轉(zhuǎn)來實(shí)現(xiàn)對樣品的可控掃描。樣品加工是通過將加速的離子轟擊樣品使其表面原子發(fā)生濺射來實(shí)現(xiàn)，同時(shí)產(chǎn)生的二次電子和二次離子被相應(yīng)的探測器收集并用于成像。為了避免離子束受周圍氣體分子的影響，與掃描電鏡類似...

2021

10-14

環(huán)掃電鏡常見分類和應(yīng)用領(lǐng)域

環(huán)掃電鏡是一種掃描電子顯微鏡，利用聚焦電子束掃描樣品的表面來產(chǎn)生樣品表面的圖像。最常見的掃描電鏡模式是檢測由電子束激發(fā)的原子發(fā)射的二次電子?？梢詸z測的二次電子的數(shù)量，取決于樣品測繪學(xué)形貌。環(huán)掃電鏡常見分類：1.分析掃描電鏡:掃描電鏡配備X射線能譜儀EDS后發(fā)展成分析掃描電鏡，不僅比X射線波譜儀WDS分析速度快、靈敏度高、也可進(jìn)行定性和無標(biāo)樣定量分析。2.場發(fā)射槍掃描電鏡：場發(fā)射掃描電鏡得到了很大的發(fā)展，不僅提高了常規(guī)加速電壓時(shí)的分辨本領(lǐng)，還顯著改善了低壓性能。3.低壓掃描電鏡...

2021

10-11

環(huán)境掃描電子顯微鏡的工作原理和儀器特點(diǎn)

環(huán)境掃描電子顯微鏡工作原理：電子與樣品中的原子相互作用，產(chǎn)生包含關(guān)于樣品的表面測繪學(xué)形貌和組成的信息的各種信號。電子束通常以光柵掃描圖案掃描，并且光束的位置與檢測到的信號組合以產(chǎn)生圖像。掃描電子顯微鏡由電子槍發(fā)射出電子束，在加速電壓的作用下經(jīng)過磁透鏡系統(tǒng)匯聚，形成電子束，聚焦在樣品表面上，在第二聚光鏡和物鏡之間偏轉(zhuǎn)線圈的作用下，電子束在樣品上做光柵狀掃描，電子和樣品相互作用產(chǎn)生信號電子。這些信號電子經(jīng)探測器收集并轉(zhuǎn)換為光子，再經(jīng)過電信號放大器加以放大處理，成像在顯示系統(tǒng)上。環(huán)...

2021

9-16

透射掃描電子顯微鏡的核心優(yōu)勢介紹，請收好！

透射掃描電子顯微鏡既有透射電子顯微鏡又有掃描電子顯微鏡的顯微鏡，可以將樣品冷卻到液氮溫度，特別適用于觀測蛋白、生物切片等對溫度敏感的樣品。通過對樣品的冷凍，可以降低電子束對樣品的損傷，減小樣品的形變，從而得到更加真實(shí)的樣品形貌。透射掃描電子顯微鏡成像是利用會(huì)聚的電子束在樣品上掃描來完成的。在掃描模式下，場發(fā)射電子源發(fā)射出電子，通過在樣品前磁透鏡以及光闌把電子束會(huì)聚成原子尺度的束斑。電子束斑聚焦在試樣表面后，通過線圈控制逐點(diǎn)掃描樣品的一個(gè)區(qū)域。在每掃描一點(diǎn)的同時(shí)，樣品下面的探測...

2021

9-13

場發(fā)射電鏡真的那么好用嗎？

場發(fā)射電鏡是電子顯微鏡的一種，是以場發(fā)射電子發(fā)射體發(fā)射電子，并以電子束為光源，在真空狀態(tài)下通過電磁透鏡控制電子束匯集成很小的束斑照射并透過樣品。由于電子的德布羅意波長非常短，可以獲得樣品原子級微觀形貌。其原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數(shù)進(jìn)行形貌觀察，同時(shí)利用電子激發(fā)出樣品表面的特征X射線來對微區(qū)的成分進(jìn)行定性定量分析。具有電子束斑小、高分辨率、穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。場發(fā)射電鏡有以下幾種用途：1.納米材料基本特性分析：對有機(jī)、無機(jī)、納米材料進(jìn)行微觀形態(tài)研究...

2021

9-10

FIB雙束掃描電鏡是什么？他又有那些用途？

隨著半導(dǎo)體電子器件及集成電路技術(shù)的飛速發(fā)展，器件及電路結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，這對微電子芯片工藝診斷、失效分析、微納加工的要求也越來越高。FIB雙束掃描電鏡所具備的強(qiáng)大的精細(xì)加工和微觀分析功能，使其廣泛應(yīng)用于微電子設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域。FIB雙束掃描電鏡是指同時(shí)具有聚焦離子束(FocusedIonBeam，F(xiàn)IB)和掃描電子顯微鏡(ScanningElectronMicroscope，SEM)功能的儀器。它可以實(shí)現(xiàn)SEM實(shí)時(shí)觀測FIB微加工過程的功能，把電子束高空間分辨率和離子束精細(xì)加工的...

2021

9-8

聚焦離子束顯微鏡原來可以用于這些地方！

聚焦離子束顯微鏡的利用鎵(Ga)金屬作為離子源，再加上負(fù)電場(Extractor)牽引端細(xì)小的鎵原子，而導(dǎo)出鎵離子束再以電透鏡聚焦，經(jīng)過一連串可變孔徑光闌，決定離子束的大小，再經(jīng)過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面，利用物理碰撞來進(jìn)行特定圖案的加工，一般單粒子束的顯微鏡，可以提供材料切割、沉積金屬、蝕刻金屬和選擇性蝕刻氧化層等功能。聚焦離子束顯微鏡主要應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路修改、切割和故障分析、TEM制樣等。1.精細(xì)切割及材料蒸鍍：利用顯微鏡可以在素玻璃上分別進(jìn)行鎵離子精細(xì)切割及...

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